等離子清洗機不分處理對象的基材類型,幾何形狀均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物、PDMS、ITO、FTO、SEBS、硅片、高分子材料、石墨(mo)烯粉(fen)末、金屬(shu)氧化物粉末(mo)等都能很好地處理,可實現(xian)整體和局部以(yi)及復雜結構的清(qing)洗、活化、改性、刻蝕,等離子接(jie)枝聚合
等離子清(qing)洗可用(yong)于多種材料(liao)的表(biao)面(mian)清(qing)潔(jie),并為(wei)進一步(bu)加工做好準備,如(ru)噴漆、涂層和封裝等(deng)。
等離子清洗機清潔過程(也稱為 等離子蝕刻(ke))可能包括氧氣(空(kong)氣)、氬氣和滿足表(biao)面需求(qiu)的任何其(qi)他元素(su)。等離子清洗機是一種(zhong)將高能量流導向需要清潔的表(biao)面的方(fang)法
等離子清(qing)潔:等離子用于清(qing)潔和準(zhun)備各種制造過程的表(biao)面
玻(bo)璃基片等(deng)離(li)子清洗機去除表面(mian)粉(fen)末雜質,提高親(qin)水性(xing)
等離子(zi)清洗機改(gai)變表面性質,提高粘接能(neng)力